一．真空室

1.內(nèi)腔尺寸：φ500mm(直徑)×500mm(高) ，門框厚度27mm,圍板厚6mm,上下底板厚20mm。真空室體內(nèi)、外表面進(jìn)行拉絲拋光處理，密封面鏡面拋光。                    

2.形式：立式前開(kāi)門, 門開(kāi)關(guān)由氣缸控制。門面及腔體外壁焊接不銹鋼矩形水管，并通冷卻水(含高閥上與真空室的連接部位)，高閥抽氣室與腔體整體連接。

3.材料：采用304不銹鋼材料

4.防污板：

A.內(nèi)襯不銹鋼材料（304）防污板，底部防污隔熱板σ=2mm(做型）；側(cè)面防污板δ=1mm；

B.底部防污板無(wú)需螺母固定；

C.真空室底面防污板共2套以便優(yōu)化生產(chǎn)周期；

D.防污板進(jìn)行更精細(xì)化設(shè)計(jì)：1、能防護(hù)到轉(zhuǎn)動(dòng)系統(tǒng)中心部件；2、能有效防護(hù)晶控探頭的四壁及導(dǎo)線；

5.觀察窗：門上部設(shè)觀察窗口1個(gè),以便觀察金屬鍍膜。金屬鍍膜窗口為直接水冷式，裝備有耐高溫石英玻璃、防輻射玻璃和防強(qiáng)光防護(hù)鏡。

6.在抽氣口設(shè)置插入式百葉窗擋板（2套）、防滑片柵網(wǎng)，拆卸清洗方便。

二．真空系統(tǒng)

1.極限真空度：3.0×10^-4Pa（真空室內(nèi)安裝完全的條件下測(cè)試）

2.恢復(fù)真空時(shí)間：大氣→4×10^-3Pa≤15min

3.測(cè)試方法：

A.腔體內(nèi)應(yīng)清潔、無(wú)樣品、無(wú)鍍膜材料。

B.配睿寶數(shù)字復(fù)合真空計(jì)壹套（兩路低真空電阻規(guī)，一路高真空電離規(guī)），帶通訊接口

C.低真空測(cè)量規(guī)：ZJ-52型電阻規(guī)（玻璃規(guī)），其測(cè)量范圍1×103 Pa～10^-1Pa。

D.高真空測(cè)量規(guī)：金屬規(guī)（電離規(guī)），其測(cè)量范圍10Pa～10^-5Pa。

E.測(cè)量規(guī)管加金屬保護(hù)套：充氣系統(tǒng)特殊設(shè)計(jì)，整個(gè)靶面充氣均勻性，輝光放電效果好。

4.真空系統(tǒng)配置：A.TYFB-1600 復(fù)合分子泵（一臺(tái)）(抽速1600L/s,泰岳恒）

                            B.直聯(lián)泵BS90型（一臺(tái)）（抽速28L/s,浙江鮑斯），帶腳輪可自行移動(dòng)。

5.真空閥門：高真空閥門、低真空閥門、預(yù)真空閥門、防喘流閥門均采用活塞式，氣缸驅(qū)動(dòng)，氣缸采用電磁閥切換汽源，并安裝在散熱條件好，易于快速維修的位置。

6.放氣閥采用氣缸控制，設(shè)置在抽氣室頂部。               

7.真空室內(nèi)密封圈全部采用氟橡膠，能承受高溫烘烤，各部分密封安全可靠。

8.真空系統(tǒng)管道采用不銹鋼波紋管連接，以減小震動(dòng)。

9.所有的抽氣管道選用..不銹鋼材料，并進(jìn)行拋光處理

10.低閥、預(yù)閥、防湍閥、放氣閥等采用304不銹耐酸鋼制造。

三．蒸發(fā)源：

1.磁控濺射靶，配2個(gè)靶。靶尺寸為200mmX40mm，靶體通冷卻水，靶的磁場(chǎng)結(jié)構(gòu)、水冷結(jié)構(gòu)必須適應(yīng)相應(yīng)的薄板靶材、導(dǎo)磁性靶材。

2.靶電源配國(guó)產(chǎn)5KW直流電源。

3.2個(gè)靶分布在實(shí)體兩測(cè)

4.氣動(dòng)擋板安裝不銹鋼絲網(wǎng)，防止擋板上膜料污染靶材。離子轟擊。棒狀陰極，直流電壓3kⅤ，功率600W

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